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米氏散射理論是通過麥克斯韋電磁理論嚴格推導出的、用來描述表面光滑的球體對光的散射規律的解析解。它考慮了散射體（顆粒）的光學特性（折射率和吸收系數）以及介質的光學特性。由于米氏理論考慮了樣品的折射率、吸收率、反射率，考慮了介質的折射率等因素，因此它對具有不同光學特性的樣品都能得到解析解，由此得到的粒度測試結果更準確，并且適用于從超細的亞微米級顆粒到較粗的毫米級顆粒，是現代激光粒度儀普遍采用的理論基礎。雖然米氏散射理論運算起來更復雜，但在計算機技術如此發達的今天，這已經不是什么缺...

從使用角度來講，可以通過觀察背景狀態來快速判斷激光粒度儀是否正常。如果背景值大于4或直方圖形狀凸凹不平說明對中不良，背景值小于0.3說明激光器亮度下降；背景直方圖長度超過20個通道，說明樣品池臟換或結霧，需要清洗或處理；在背景坐標的右邊有背景信號，需要檢查樣品池和介質是否干凈。不同品牌的激光粒度儀，背景的圖形形式可能有所不同，但無論如何，背景都是在激光穿過充滿純凈介質的樣品池后各個角度探測器上接受到的光信號。它能直接反映儀器的狀態是否正常，因此通過觀察背景狀態，就可以快速判斷...

激光粒度儀良好的背景狀態必須同時具備以下五點：數值較低（1-3）、長度短（占20個通道以內）、形狀斜（從左逐漸遞減）、位置左（位于坐標zui左側）和穩定。影響激光粒度儀的背景狀態的因素有以下原因：一是對中不良，二是樣品池粘附顆粒或結霧，三是介質不干凈，四是激光器老化。此外像樣品池中沒有介質、環境空氣中灰塵太多、富氏透鏡臟等也可能造成背景狀態異常。如果出現背景異常，首先要檢查樣品池和透鏡是否干凈，然后檢查樣品池中是否有介質和介質是否有雜質，再檢查對中狀態是否良好。如果這些都正常...

納米激光粒度儀儀器原理：符合ISO13321標準，激光光子相關光譜法原理，采用智能自相關器，自動選擇測試的*參數。計算功能強大，可測試單分散和多分散樣品。測量范圍：1nm～10000nm納米激光粒度儀儀器原理采用動態光散射原理和光子相關光譜技術，根據顆粒在液體中的布朗運動的速度測定顆粒大小。小顆粒布朗運動速度快，大顆粒布朗運動速度慢，激光照射這些顆粒，不同大小的顆粒將使散射光發生快慢不同的漲落起伏。光子相關光譜法就根據特定方向的光子漲落起伏分析其顆粒大小。因此本儀器具有原理先...

背景是激光透過樣品池及純凈介質后在探測器上形成的固定的光信號。產生背景的主要原因是激光由空氣進入樣品池玻璃（前）、介質、樣品池玻璃（后）再返回空氣的過程中，發生的折射、反射現象，再加上樣品池玻璃、介質和透鏡上可能的微小污染的綜合作用引起的。測量背景的目的就是要在粒度測試時扣除這些固定的、與樣品無關的信號，以消除樣品散射光以外的因素對測量結果的影響，保證測量結果的準確可靠。